鐵磁性金屬薄膜在半導體上的製程與磁性研究

本研究中磁性材料選擇鈷，選用矽(100)當作基板。用射頻磁控濺鍍成長鈷及蒸鍍成長紅熒烯，當作改變矽基板表面特性的介面層，在單晶矽(100)上成長鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)結構，配合鈷/矽(100)系統的研究，探討紅熒烯加入後對表面與磁性的影響，用原子力顯微鏡觀察表面形貌的變化，與磁光科爾效應的磁探測技術。比較鈷/矽(100)與鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)兩個系統，發現在鈷/矽(100)系統中間夾入4 nm紅熒烯，成為鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)系統，紅熒烯會減少鈷膜內部的缺陷，導致矯頑力的下降，在此提出4 nm紅熒烯扮演化學中界面活性劑的角色，使鈷薄膜在磁特性表現更好。