利用在矽基板上Si(上標 +)預離子佈置來提高GeSi緩衝層的鬆驰以利Ge的成長

忠諺 楊

研究成果: 雜誌貢獻文章同行評審

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期刊國家奈米元件實驗室newsletter
發行號12
出版狀態已發佈 - 2008

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