新型濕式垂直蝕刻技術開發應用於半導體材料

Yang, Chii-Rong (PI)

機電工程學系

研究計畫: 政府部門 › 科技部計畫

狀態	已完成
有效的開始/結束日期	2013/08/01 → 2015/07/31

Keywords

觸媒蝕刻技術
半導體製程
高深寬比結構
光觸媒材料
蝕刻速率