鐵磁性金屬薄膜在半導體上的製程與磁性研究

Research output: Contribution to journalArticle

Abstract

本研究中磁性材料選擇鈷,選用矽(100)當作基板。用射頻磁控濺鍍成長鈷及蒸鍍成長紅熒烯,當作改變矽基板表面特性的介面層,在單晶矽(100)上成長鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)結構,配合鈷/矽(100)系統的研究,探討紅熒烯加入後對表面與磁性的影響,用原子力顯微鏡觀察表面形貌的變化,與磁光科爾效應的磁探測技術。比較鈷/矽(100)與鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)兩個系統,發現在鈷/矽(100)系統中間夾入4 nm紅熒烯,成為鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)系統,紅熒烯會減少鈷膜內部的缺陷,導致矯頑力的下降,在此提出4 nm紅熒烯扮演化學中界面活性劑的角色,使鈷薄膜在磁特性表現更好。
Original languageChinese
Pages (from-to)97-103
Number of pages7
Journal臺北海洋技術學院學報
Volume8
Issue number1
Publication statusPublished - 2016

Cite this

鐵磁性金屬薄膜在半導體上的製程與磁性研究. / 陳耀榮; 蔡志申(J. S. Tsay).

In: 臺北海洋技術學院學報, Vol. 8, No. 1, 2016, p. 97-103.

Research output: Contribution to journalArticle

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journal = "臺北海洋技術學院學報",
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publisher = "臺北海洋技術學院",
number = "1",

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TY - JOUR

T1 - 鐵磁性金屬薄膜在半導體上的製程與磁性研究

AU - 陳, 耀榮

AU - 蔡, 志申(J. S. Tsay)

PY - 2016

Y1 - 2016

N2 - 本研究中磁性材料選擇鈷,選用矽(100)當作基板。用射頻磁控濺鍍成長鈷及蒸鍍成長紅熒烯,當作改變矽基板表面特性的介面層,在單晶矽(100)上成長鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)結構,配合鈷/矽(100)系統的研究,探討紅熒烯加入後對表面與磁性的影響,用原子力顯微鏡觀察表面形貌的變化,與磁光科爾效應的磁探測技術。比較鈷/矽(100)與鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)兩個系統,發現在鈷/矽(100)系統中間夾入4 nm紅熒烯,成為鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)系統,紅熒烯會減少鈷膜內部的缺陷,導致矯頑力的下降,在此提出4 nm紅熒烯扮演化學中界面活性劑的角色,使鈷薄膜在磁特性表現更好。

AB - 本研究中磁性材料選擇鈷,選用矽(100)當作基板。用射頻磁控濺鍍成長鈷及蒸鍍成長紅熒烯,當作改變矽基板表面特性的介面層,在單晶矽(100)上成長鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)結構,配合鈷/矽(100)系統的研究,探討紅熒烯加入後對表面與磁性的影響,用原子力顯微鏡觀察表面形貌的變化,與磁光科爾效應的磁探測技術。比較鈷/矽(100)與鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)兩個系統,發現在鈷/矽(100)系統中間夾入4 nm紅熒烯,成為鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)系統,紅熒烯會減少鈷膜內部的缺陷,導致矯頑力的下降,在此提出4 nm紅熒烯扮演化學中界面活性劑的角色,使鈷薄膜在磁特性表現更好。

KW - 鈷

KW - 紅熒烯

KW - 表面磁光科爾效應

KW - 矽

KW - Cobalt

KW - Rubrene

KW - SMOKE

KW - Silicon

M3 - 文章

VL - 8

SP - 97

EP - 103

JO - 臺北海洋技術學院學報

JF - 臺北海洋技術學院學報

SN - 2071-3630

IS - 1

ER -