鐵磁性金屬薄膜在半導體上的製程與磁性研究

Research output: Contribution to journalArticle

Abstract

本研究中磁性材料選擇鈷,選用矽(100)當作基板。用射頻磁控濺鍍成長鈷及蒸鍍成長紅熒烯,當作改變矽基板表面特性的介面層,在單晶矽(100)上成長鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)結構,配合鈷/矽(100)系統的研究,探討紅熒烯加入後對表面與磁性的影響,用原子力顯微鏡觀察表面形貌的變化,與磁光科爾效應的磁探測技術。比較鈷/矽(100)與鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)兩個系統,發現在鈷/矽(100)系統中間夾入4 nm紅熒烯,成為鈷/4 nm紅熒烯/矽(100)系統,紅熒烯會減少鈷膜內部的缺陷,導致矯頑力的下降,在此提出4 nm紅熒烯扮演化學中界面活性劑的角色,使鈷薄膜在磁特性表現更好。
Original languageChinese
Pages (from-to)97-103
Number of pages7
Journal臺北海洋技術學院學報
Volume8
Issue number1
Publication statusPublished - 2016

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